熱場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電鏡
生產(chǎn)廠家：美國(guó)FEI
設(shè)備型號(hào)：Quanta FEG 450
安放地點(diǎn)：昌平創(chuàng)新園南樓102
負(fù)責(zé)人：段曉鴿
聯(lián)系電話：010-62332598-6102
主要功能：
該設(shè)備綜合場(chǎng)發(fā)射電鏡高分辨和ESEM環(huán)境掃描電鏡適合樣品多樣性的優(yōu)勢(shì)，適用對(duì)各種樣品表面形貌、成分、取向等進(jìn)行高分辨的觀察和分析，包括導(dǎo)電樣品、不導(dǎo)電樣品、含水含油樣品、放氣樣品、加熱樣品、冷卻樣品等。除了對(duì)樣品進(jìn)行靜態(tài)觀察之外，還可對(duì)樣品進(jìn)行動(dòng)態(tài)過程的觀察和分析，如樣品脫水、增濕、加熱、凝固等過程。廣泛應(yīng)用于金屬材料、無機(jī)非金屬材料、冶金、汽車、生物、醫(yī)學(xué)、刑偵技術(shù)等研究開發(fā)領(lǐng)域。
主要技術(shù)參數(shù)：
真空模式：高真空模式、低真空模式、環(huán)境真空模式
分辨率：1.0nm@30kV（高真空模式）
1.4nm@30kV（低真空模式）
1.4nm@30kV（環(huán)境真空模式）
放大率：10×～1,000,000×
加速電壓：0.2kV～30kV
探針電流：最大200nA
樣品臺(tái)：行程：X=Y=100mm；Z=60mm
旋轉(zhuǎn)：360°連續(xù)
傾斜：-5°～+70°
配置：
1.探測(cè)器
ETD：二次電子探頭（高真空模式）
LFD：二次電子探頭（低真空模式）
GSED：二次電子探頭（環(huán)境掃描模式）
BSED：背散射電子探頭
2.X射線能譜儀（EDS）
型號(hào)： TEAM EDS（EDAX）
能量分辨率：125eV@MnKα
探測(cè)元素范圍：Be4-U92
3.電子背散射衍射（EBSD）分析系統(tǒng)
型號(hào)： Hikari XP（EDAX）
取向精度：優(yōu)于0.1°
采集速度：650 Hz（點(diǎn)/秒）
4.熱臺(tái)
溫度范圍：23℃-1500℃
加熱速度：≤50℃/min
溫度控制精度：~25℃
冷卻：循環(huán)水冷
氣體類型：水蒸氣、空氣、氮?dú)?、其他氣體
實(shí)驗(yàn)室預(yù)約 ：